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1200℃双管CVD系统

1200℃双管CVD系统

1200℃双管CVD系统

1200℃双管CVD系统是一个特殊的双管CVD系统,是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究。通过滑动炉子可以实现物料的快速加热和冷却

产品概述:
该系统是 一个特殊的双管CVD系统,是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究。通过滑动炉子可以实现物料的快速加热和冷却。

技术参数:

产品名称

1200℃双管CVD系统

第一部分: 1200℃双管CVD系统

产品型号

PT-1200T

炉管尺寸

双石英管

外管:OD 100 x ID 96 x 1400 mm

内管:OD 80 x ID 75 x 1800 mm

加热区

220+220mm

供电电源

230V,单相,50HZ

功率

4.0 kw

加热元件

电阻丝

升温速率

0-20°C/min

热电偶

 K型

第二部分: 水冷系统

法兰

1.水冷机 CW-3000

2.水冷,密封双管的真空法兰:允许反应气体通过两管之间(10mm间隙)发生反应,冷却气体直接通入内管.

第三部分  真空系统

真空系统

1. 防腐数显真空计   

2. VRD-16旋片泵,抽速4L/S,含挡板阀 KF25接口,波纹管和箱体

第四部分  混气系统

质量流量计

量程:

MFC 1: 0~10 sccm  

MFC 2: 0~200 sccm  

MFC 3: 0~10 slm  

MFC 3: 0~10 slm  

.......

双管CVD系统

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